SFE-35型超临界二氧化碳超声清洗系统 超临界二氧化碳无损伤清洗设备。应用此设备对硅片进行清洗的颗粒明显减少，且平均粒径小于传统清洗的粒径。相对用等离子法清洗，该方法不会对硅片造成损伤，同时可减少工艺步骤，节省时间，提高工作效率。

SFE-1型超临界二氧化碳清洗系统 超临界二氧化碳无损伤清洗设备。应用此设备对硅片进行清洗的颗粒明显减少，且平均粒径小于传统清洗的粒径。相对用等离子法清洗，该方法不会对硅片造成损伤，同时可减少工艺步骤，节省时间，提高工作效率。